旋轉(zhuǎn)粉體等離子清洗機VP-T3解決了微小顆粒特別是粉末樣品PLASMA處理不充分，不均勻的痛點，真空腔體在等離子處理過程中滾動旋轉(zhuǎn)，從而帶動粉末樣品在真空環(huán)境下翻滾，從而確保的樣品得到充分、均勻的等離子處理。VP-T3樣品腔石英玻璃材質(zhì)，腔體容積3L，轉(zhuǎn)速可調(diào)，可關(guān)閉（不旋轉(zhuǎn)相當(dāng)于普通真空等離子清洗機），一機兩用，性價比很高。旋轉(zhuǎn)粉體等離子清洗機VP-T3頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行3分鐘，腔體溫度不高于32℃，不損傷樣品，適用于石墨烯粉末、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導(dǎo)電玻璃、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的處理。

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